





压力控制器用于控制前室压力时高压管嘴P1接通前室,低压管嘴P2接走廊或过道;PG301压力控制器监控两端的压差值,当压差值达到设定值(25~30PA),压力控制器常开触点闭合,接通楼顶旁通泄压阀电源,处于楼顶的溢流阀打开进行送风泄压,降低压差值,当压差值降低到一定值(通常回差为10PA),PG301前室压力控制器触点断开,楼顶旁通阀断电,旁通阀闭合停止泄压。
PG301压力控制器用于控制前楼梯间压力时高压管嘴P1接通楼梯间,低压管嘴P2接走廊或过道;PG301压力控制器监控两端的压差值,当压差值达到设定值(40~50PA),压力控制器常开触点闭合,接通楼顶旁通泄压阀电源,处于楼顶的溢流阀打开进行送风泄压,降低压差值,当压差值降低到一定值(通常回差为10PA),PG301前室压力控制器触点断开,楼顶旁通阀断电,旁通阀闭合停止泄压。
、DLK4521通用型前室间压差控制器压力传感器|楼梯间差压控制器压力传感器,是我司研发生产的一款主要用于高层建筑前室及通道之间(楼梯间与走道)的压力测量与控制,控制前室与走道防火门两侧压差值达到或超过30Pa时打开楼顶旁通泄压阀进行泄压(楼梯间与前室为50Pa),确保火灾时逃生人员能轻便打开防火门同时又确保烟雾无法进入前室及消防逃生走道楼梯间。
硅单芯片为衬底的SiC薄膜
五、SiC薄膜材料 SiC是另一种在特殊环境下使用的化合物半导体。它由碳原子和硅原子组成。利用离子注入掺杂技术将碳原子注入单晶硅内,便可获得的立方体结构的SiC。随着掺杂浓度的差异得到的晶体结构不同,可表示为β-SiC。β表示不同形态的晶体结构。用离子注入法得到的SiC材料,自身的物理、化学及电学特性优异,表现出高强度、大刚度、内部残余应力很低、化学惰性极强、较宽的禁带宽度(近乎硅的1-2倍)及较高的压阻系数的特性;因此,SiC材料能在高温下耐腐蚀、抗辐射,并具有稳定的电学性质。非常适合在高温、恶劣环境下工作的微机电选择使用。 由于SiC单晶体材料成本高,硬度大及加工难度大,所以硅单晶片为衬底的SiC薄膜就成为研究和使用的理想选择。通过离子注入,化学气相淀积(VCD)等技术,将其制在Si衬底上或者绝缘体衬底(SiCOI)上,供设计者选用。例如航空发动机、火箭、及等耐热腔体及其表面部位的压力测量,便可选用以绝缘体为衬底的SiC薄膜,作为感压元件(膜片),并制成高温压力微传感器,实现上述场合的压力测量。测压时的工作温度可达到600℃以上。



